六方氮化硼薄膜制备方法流程

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六方氮化硼（H-BN）是一种Ⅲ类化合物，其六方相具有类似于石墨烯的层状结构，被命名为白石墨，层中的b和N原子以共价键结合在一起，其结构为稳定。层间有范德华力，层间可以通过脱硼的方式打开，在空气中非常稳定，可以承受2000℃的高温，只有在连续强加热条件下才能燃烧，可以用于高温耐火材料、耐火涂料。

以下是制备六方氮化硼薄膜的步骤：
(1)硼源置于衬底中；
(2)在惰性气体气氛中加热硼源使硼源熔化；
(3)然后，通过气相氮源进行反应；
(4)反应结束后，除去未反应的硼源，得到六方氮化硼薄膜。

硼源有氧化硼、硼酸、偏硼酸锂、偏硼酸钠、偏硼酸钾、四硼酸锂及其水合物、四硼酸钠及其水合物、四硼酸钾及其水合物、四硼酸铝及其水合物。

此外，还可以通过CVD法制备六方氮化硼薄膜
CVD法制备的六方氮化硼薄膜通常使用BCL3或B2H6作为硼源，BCL3作为硼源可以获得较高的沉积速率，但在较高的沉积温度（1200～2000℃）下，可以在较低的温度下获得非晶氮化硼B2H6作为硼源的沉积速率比B2H6低，但沉积温度可明显降低，最低可降低至600℃，Bcl3和NH3在827℃沉积非晶态氮化硼薄膜,在900°C下制备六方氮化硼薄膜。

H-BN薄膜的表面探究得出由于在吸附空气中碳氢化合物的作用下,氮化硼的水接触角随着暴露在空气中的时间而增加，水接触角大于93.60，表明表面H-BN薄膜能量低，可作为碳氢化合物材料。

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